電鍍鍍膜加工二次浸鋅加工工藝

將次浸鋅后的鋅層在20%~30%HNO3水溶液中，撤出鋅或是在帶有氟化物的活化液中退除鋅層，實際操作時間約為30s，待鋅層所有退除后手洗開展第二次浸鋅，經二次浸鋅解決的鋅層更勻稱高密度，能提高鎂合金常規(guī)與事后涂層中間的結合性。

真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統鍍膜方式，真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜。

鍍膜的保護作用

1、抗酸堿腐蝕,能解決受酸性或堿性物質腐蝕的問題。

2、低水、氣體滲透性、具高屏障效果,能達到防潮、防水、防銹及減緩風化等作用。

在真空條件下成膜有很多優(yōu)點：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學反應，以及減少成膜過程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

真空鍍膜加工工藝中，要求裝配到高真空環(huán)境的零件，事先都需要小心地進行清洗處理，否則各種污染物可成為大量氣體和蒸氣的來源，會大大延長真空器件的排氣時間，不易獲得高真空。

真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響鍍膜產品的質量。在進入鍍膜室之前，工件須在鍍膜前仔細清洗。真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術,在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。