可耐5000V且可隨厚度增加而持續提高

絕緣性能不會受環境溫度和濕度的影響；

Parylene 的介電常數和介電損耗均非常低且不受吸潮的影響；

Parylene 的高純度、表面憎水性及不存在任何痕量的離子污染又保證了極高的體積電阻率和表面電阻率；

極低的高頻損耗，特別適合超高頻器件。

用環氧樹脂材料進行電泳涂敷，但電泳涂敷時工件表面必須有一掛點，掛點的修補不僅費工費時，而且質量難以保證用。另外當繞線器件很小時，使用傳統膠帶做絕緣就很困難。用Parylene涂層能夠有效此問題并具有大量生產降低成本的優勢 。

不導電（NCVM）鍍膜設備NCVM又稱不連續鍍膜技術或不導電電鍍技術，是一種起緣普通真空電鍍的高新技術。真空電鍍，簡稱 vm， 是vacuum metalization的縮寫。它是指金屬材料在真空條件下，運用化學和物理等特定手段進行有機轉換，使金屬轉換成粒子，沉積或吸附在塑膠材料的表面，形成膜，也就是我們所謂的鍍膜。

進口不導電（NCVM）鍍膜設備應用于塑料電子產品:手機外殼、手機按鍵、電腦、數碼、電子通信等的表面鍍制不導電膜（NCVM）。大功率蒸發系統，可控硅控制，重復性、穩定性高,獨有鍍透電極設計，配置石英晶振，可控制任何膜層厚度,擁有的工件架技術，轉速平穩可調，產量大且良品率高。

1、派瑞林真空鍍膜設備有效應用于磁性材料領域，派瑞林的制備工藝和優異性能相結合，使它能對小型超小型磁材進行無薄弱點全涂敷的磁材可浸鹽酸10天以上不腐蝕，目前國際上小型或者超小型磁材，幾乎都采用派瑞林鍍膜工藝作絕緣和防護涂層。

2、派瑞林真空鍍膜設備有效應用于印制電路組件和元器件領域，鍍膜材料通過派瑞林真空鍍膜設備使得活性的對二雙游離基小分子氣在印制電路組件表面沉積聚合完成。氣態的小分子能滲透到包括貼裝件下面任何一個細小縫隙的基材上沉積，形成分子量約50萬的高純聚合物。

3、派瑞林真空鍍膜設備有效應用于微電子集成電路領域，派瑞林的真空氣相沉積工藝不僅和微電子集成電路制作工藝相似，而且所制備的派瑞林涂層介電常數也低，還能用微電子加工工藝進行刻蝕制圖，進行再金屬化，因此派瑞林（Parylene）不僅可用作防護材料，而且也能作為結構層中的介電材料和掩膜材料使用，經派瑞林（Parylene）涂敷過的集成電路芯片，其25um細直徑連接線，連接強度可提高5-10倍。