空鍍膜是真空應用領域，而光學鍍膜是指在光學零件表面鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝。

真空鍍膜是以真空技術為基礎，采用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻、磁控等一系列新技術。光學鍍膜是一種物理或化學方法，在材料表面涂上一層透明的電解質膜，或一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。

東莞拉奇納米科技有限公司是一家從事納米鍍膜代工與納米鍍膜設備制造銷售的公司，是將派瑞林（PA-RYLENE）高分子材料裂解為納米分子再進行產品表面的真空鍍膜處理。使被鍍物具備以下特性：防水、防潮、耐酸堿、抗鹽霧、高抗壓、絕緣、生物兼容性等。

真空鍍膜機主要是為了減少反射。為了提高透鏡的透光率和圖像質量，在現代透鏡制造技術中，透鏡應采用真空鍍膜。根據光學干涉原理，透鏡的真空涂層是在透鏡表面涂覆一層厚度為四分之一波長（通常為氟化物）的材料，以盡量減少該波長色光的反射。顯然，一層薄膜只能作用于一種顏色的光，而多層真空涂層可以作用于多種顏色的光。

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真空鍍膜是一種表面非常薄的透明薄膜。目的是減少光的反射，提高透射率，抵抗紫外線，抑制耀斑和鬼影；不同顏色的真空鍍膜也使成像色彩平衡不同。此外，真空鍍膜還可以延遲透鏡的老化和變色時間。

PVD是英文Physical Vapor Deition(物理氣相沉積)的縮寫。是指在真空條件下，利用低壓大電流電弧放電技術，利用氣體放電蒸發靶材，使蒸發的物質和氣體電離，利用電場加速度將蒸發的物質及其反應產物沉積在工件上。