在所有應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出來．而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對(duì)靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。靶材的結(jié)晶粒子直徑和均勻性已被認(rèn)為是影響薄膜沉積率的關(guān)鍵因素。另外，薄膜的純度與靶材的純度關(guān)系極大，過99.995%（4N5）純度的銅靶，或許能夠滿足半導(dǎo)體廠商0.35pm工藝的需求，但是卻無法滿足如今0.25um的工藝要求。因此需精密的量測(cè)，故要求有一套高精密的量測(cè)系統(tǒng)來支持，方能達(dá)到產(chǎn)品的設(shè)計(jì)要求。

濺射技術(shù)：濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導(dǎo)體集成電路、太陽能光伏、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、設(shè)計(jì)合理、使用壽命長(zhǎng)的特點(diǎn)可增加在刷輥輥軸有效長(zhǎng)度上單片刷套安裝數(shù)量10%左右，進(jìn)而能夠高密度填充刷毛，提高了清洗質(zhì)量。

由于具有獨(dú)特的物理化學(xué)性能，當(dāng)代科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展，將會(huì)越來越多的應(yīng)用于國(guó)民經(jīng)濟(jì)中的航空、航天、航海、火箭、原子能、微電子技術(shù)等高科技領(lǐng)域及石油化工、化學(xué)工業(yè)、汽車尾氣凈化等與人類生活息息相關(guān)的領(lǐng)域，并在眾多的應(yīng)用領(lǐng)域中起著關(guān)鍵的的作用，因此被譽(yù)為“首要高技術(shù)金屬”、“現(xiàn)代工業(yè)的維生素”“現(xiàn)代新金屬”，發(fā)達(dá)的國(guó)家長(zhǎng)期以來一直把視為“戰(zhàn)略性物質(zhì)”。根據(jù)電解質(zhì)的種類可分為氯化物熔鹽體系和氟化物-氧化物熔鹽體系電解法，多用于制取以鑭為主的混合稀土金屬以及鑭、鐠、釹等單一稀土金屬。