抽真空系統，目前基本是兩種，一種是擴散泵系統，一種是分子泵系統，分子泵系統屬于清潔抽氣系統，沒有擴散泵的返油現象，抽速也相對比較穩定，而且比較省電，電費的支出是鍍膜企業生產運營成本中很大的一環。對于泵系統的定期維護是很重要的，特別是潤滑油的定期更換，注意油品牌號的選擇，選擇錯誤很容易損壞真空泵。

真空檢測系統，目前基本都是用復合真空計，熱偶規+電離規的組合，這個組合在遇到充入大量含有C元素的氣體的工藝，電離規很容易毒化，造成電離規損壞，如果鍍制含有大量C元素的氣體的工藝，可以考慮，配置電容薄膜規。

真空蒸發鍍膜的定義

真空蒸發鍍膜是在真空條件下，用蒸發器加熱蒸發物質使之汽化，蒸發粒子流直接射向基片并在基片上沉積形成固態薄膜的技術。括熱蒸發和EB蒸發（電子束蒸發）

真空蒸發鍍膜主要過程

1.采用各種能源方式轉成熱能，加熱膜材使之蒸發或升華，成為具有一定能量的氣態粒子（原子、分子和原子團）

2.離開膜材表面，具有相當運動速度的氣態粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運到基體表面；

3.到達基體表面的氣態粒子凝聚形核后生長成固相薄膜

4.組成薄膜的原子重組排列或產生化學鍵合

熱蒸發原理及特點

熱蒸發是在真空狀況下，將所要蒸鍍的材料利用電阻加熱達到熔化溫度，使原子蒸發，到達并附著在基板表面上的一種鍍膜技術。特點：裝置便宜、操作簡單廣泛用于Au、Ag、Cu、Ni、In、Cr等導體材料。

真空離子鍍膜定義

在真空條件下，利用氣體放電使氣體或蒸發物質離化，在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時，把蒸發物或其反應物蒸鍍在基片上。

離子鍍把輝光放電、等離子體技術與真空蒸發鍍膜技術結合在一起

真空離子鍍膜是真空蒸發和真空濺射鍍膜結合的一種鍍膜技術。離子鍍的過程是在真空條件下,利用氣體放電使工作氣體或被蒸發物質(膜材)部分離化,在工作氣體離子或者被蒸發物質的離子轟擊作用下,把蒸發物質或其反應物沉積在被鍍基片表面的過程