真空鍍膜則是相對(duì)于上述的濕式鍍膜辦法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技能，一般稱為干式鍍膜技能。真空鍍膜技能一般分為兩大類，即物理氣相堆積（PVD）技能和化學(xué)氣相堆積（CVD）技能。

真空鍍膜加工的基本技能要求

1、設(shè)備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結(jié)構(gòu)形式，應(yīng)契合GB/T6070的規(guī)則。

2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應(yīng)設(shè)備真空丈量規(guī)管，分別丈量各部位的真空度。當(dāng)發(fā)現(xiàn)電場對(duì)丈量造成攪擾時(shí)，應(yīng)在丈量口處設(shè)備電場屏蔽設(shè)備。

真空鍍膜加工都使用那些工藝

噴砂和陽極氧化

一般的陽極氧化噴砂是針對(duì)的鋁或者鋁合金的較多。砂分為粗砂和細(xì)砂，細(xì)砂的成本相對(duì)要高一點(diǎn)點(diǎn)，一般金屬表面瑕疵較多的會(huì)選擇噴粗砂去掩蓋一部分，但是噴砂不能完全掩蓋一些嚴(yán)重的瑕疵。細(xì)砂一般針對(duì)金屬表面比較平整很小瑕疵或者沒有瑕疵的。噴砂以后做氧化能給產(chǎn)品帶來很好的質(zhì)感。像我們常用的手機(jī)殼表面很多都是噴砂之后氧化的

鍍膜方法可以分為氣相生成法，氧化法，離子注入法，擴(kuò)散法，電鍍法，涂布法，液相生長法等。氣相生成法又可分為物理氣相沉積法，化學(xué)氣相沉積法和放電聚合法等。真空蒸發(fā)，濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理氣相沉積法，是基本的薄膜制備技術(shù)。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以，真空技術(shù)是薄膜制作技術(shù)的基礎(chǔ)，獲得并保持所需的真空環(huán)境，是鍍膜的必要條件。

真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個(gè)重要分支，它已廣泛地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法。首先在光學(xué)方面，一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后，即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作任何預(yù)期比例的反射或透射材料，也可以作成對(duì)某種波長的吸收，而對(duì)另一種波長的透射的濾色名片。