真空鍍膜技術之物理氣相沉積技術，它利用某種物理過程，實現物質原子從源物質到薄膜的可控轉移過程。物理氣相沉積技術具有膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩定的合金膜和重復性好等優點。

真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有障礙。鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。

真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。

真空鍍膜是一種產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。

真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，廣泛應用于汽車、摩托車燈具、工藝美術、裝潢裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、化妝品、手機、鬧鐘等領域。

真空鍍膜有三種方式，即揮發鍍膜、磁控濺射鍍膜和等離子噴涂。真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜。在鍍膜方式上，比較普遍的是采用蒸發鍍或者磁控濺射鍍或者離子鍍。