如何測量真空鍍膜機的厚度?

理想的膜厚是基片表面與膜表面之間的距離。在薄膜形態的三維測量中，其他二維測量相對于薄膜厚度可以說是大的。由于實際表面是不均勻、不連續的，而且膜內部可能存在氣孔、雜質、晶格缺陷、表面吸附分子等，實際上很難嚴格定義和準確測量膜的厚度。薄膜厚度的定義取決于尋址方法和尋址目的。因此，相同的薄膜，采用不同的測量方法會得到不同的結果，即不同的厚度。

影響磁控濺射真空鍍膜機薄膜均勻性的因素有哪些?

磁場不均勻的影響

由于實際的磁控濺射裝置中電場和磁場不是處處均勻的，也不是處處正交的，都是空間的函數。寫出的三維運動方程表達式是不可解的，至少沒有初等函數的解。所以磁場的不均勻性對離子的影響，也即對成膜不均勻性的影響是難以計算的，好的方法就是配合實驗具體分析。圖1是用中頻孿生靶柔性卷繞磁控濺射鍍膜裝置實驗得出的靶磁場均勻性和成膜厚度均勻性的對應關系。

真空鍍膜機擴散泵維修與保養

擴散泵是真空鍍膜機很重要的部件，大家都知道，真空鍍膜機是在真空狀態下工作的，那么真空腔體要達到真空，擴散泵的。然而要保證真空鍍膜機長期穩定工作，擴散泵保養和維護是的環節。

1、擴散泵工作過程中冷卻水必須保證暢通，停止加熱后必須保證泵工作液已完全冷卻后方可關閉冷卻水。

2、擴散泵停止工作時，泵內應保持真空狀態，以免泵油劣化。

真空鍍膜機的工作原理是怎樣的？

為了實際實現狀態反饋控制規律，必須采用可以直接測量的控制對象輸入與輸出，根據真空鍍膜機建立確定狀態的動態系統，稱其為觀測器。由輸出確定控制規律本身的動態系統稱為動態補償器。

基于狀態方程式進行控制系統設計的至大特點之一是在確定控制規律后，獨立進行這種狀態估計器的設計。

也就是說，除了控制對象的構造之外，都是利用算法計算求出來的。

這樣就構成了既包含外部環境在內的控制對象，又能使閉環穩定且能跟蹤目標值的系統。但是，真空鍍膜機廠家的設計人員感到困難的問題是在給出具體設計指標后，究竟利用評價函數還是利用極點配置的方法問題。

為解決這個問題，通常是改變評價函數，再根據控制系統特性的變化，尋求出優評價函數，對此需要反復進行幾次才行。

真空鍍膜機的系統控制往往采用階梯狀或塊狀的線性自由系統輸出來表達外干擾和目標值的形式。因此，在現代控制理論中，特別是將這種控制系統稱為“伺服系統”。

這種伺服系統的設計按如下步驟進行：建立包含有干擾和目標值等控制對象的外部環境模型，對于與控制對象組合的全系統，尋求狀態反饋規律。