各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。熔鹽電解法為連續(xù)性生產(chǎn)過程，產(chǎn)量較大，設(shè)備簡(jiǎn)單，成本較低，但電解槽需用耐高溫氯化物或氟化物腐蝕的結(jié)構(gòu)材料制造。20世紀(jì)90年代以來，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造；在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲(chǔ)器的存儲(chǔ)容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對(duì)所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。

超純金屬，指的化學(xué)雜質(zhì)和物理雜質(zhì) (晶體缺陷) 含量的金屬。目前主要以化學(xué)雜質(zhì)的含量為標(biāo)準(zhǔn)，常以雜質(zhì)在金屬中總含 量的百萬分之幾表示 。超純金屬是相對(duì)高純度的金屬，一般指金屬純度達(dá)到純度9以上的金屬，物理雜質(zhì)的概念才是有意義的。

材料的純度對(duì)其性能，特別是微電子學(xué)、光電子學(xué)性能影響很大，現(xiàn)代高技術(shù)產(chǎn)業(yè)要求制備出超純金屬以利于制作器件。

金屬靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。有金屬類、合金類、氧化物類等等。

簡(jiǎn)單說的話，例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜......鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。

應(yīng)用于顯示屏的阻擋層或調(diào)色層，筆記本電腦的裝飾層、電池的封裝等.