在應用真空鍍膜加工的全過程中，要求注意下列一些難題。

1、脈沖電鍍電源與電鍍槽中間的間距

為了保證脈沖電流量波型引入鍍槽時不崎變，且衰減系數小，期待在安裝時，脈沖電鍍電源與鍍槽的間距2-3m為宜，要不然對脈沖電流量波型的后沿危害很大，電鍍將不可以超過預估功效。

2、陽陰極的導線銜接方法

直流穩壓電源的導線銜接方法，不宜脈沖開關電源的銜接，脈沖電鍍電源的輸出銜接，期待二根導線的極間電容可以相抵導線的傳送電感器效用。

因此陰、陽極氧化導線有效的方法就是雙絞交叉后，引送至鍍槽邊，隨后維持脈沖波型不會改變。

3、導線的采用

因為是脈沖開關電源，為了避免趨夫效用，在導線挑選時，應挑選多芯銅芯電纜作脈沖開關電源到鍍槽的銜接線，多芯銅芯電纜絞織，期間的線電容器可以相抵其電感器效用。

真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能， 供優異的電磁屏蔽和導電效果。

真空鍍膜技術一般分為物理液相堆積技術和有機化學液相堆積技術兩類。物理學液相堆積技術是指在真空泵標準下用各種物理方法將電鍍材料揮發成分子、分子結構或弱電解質成正離子，立即堆積在基礎表層的方式。

真空鍍膜有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.蒸發鍍膜 通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發或離子鍍等技術,在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。

真空鍍膜加工均勻性的概念：

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，真空鍍膜加工均勻性。

2.化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性，薄膜，如果鍍膜過程不科學，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜加工的技術含量所在。

3.晶格有序度的均勻性