1分鐘前 東陽手機曝光顯影加工價位值得信賴「利成感光」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：曝光不足，導致單體聚合不，那么在顯影過程中，會使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過度，會造成難顯影，留有殘膠。同時曝光影響圖案的線寬，過量曝光會使圖形線條變細，蝕刻產(chǎn)品線條變粗。

曝光顯影工藝主要應用于微電子加工中，是一種將芯片圖案傳遞到硅片上的技術(shù)。

曝光顯影工藝可以分為以下步驟：準備硅片：在硅片上涂覆光刻膠，將硅片和光刻膠一起加熱，使其在表面形成均勻的光刻膠層。

曝光是將需要蝕刻的圖案通過光繪轉(zhuǎn)移到兩張一樣的菲林膠片上，然后通過機器定位或者人工定位的方式去將菲林對準，再將涂布感光油墨的蝕刻片置于菲林中間，固定后進行曝光。3D玻璃顯影曝光技術(shù)在HW mateRs用到了此技術(shù)，曝光時菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對于空白的蝕刻鋼片感光，鋼片感光的油墨發(fā)生聚合反應，然后通過顯影機，蝕刻鋼片上的感光油墨不被顯影液所融化，

顯影噴淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上，顯影噴嘴分為以下幾種：E2噴嘴，LD噴嘴，GP噴嘴，MGP噴嘴等。在傳統(tǒng)的膠片攝影中，曝光是通過光線交互感光材料來記錄影像的過程，而顯影是通過在顯影劑溶液中，通過還原和氧化反應，使得感光材料上的顯影晶粒排列形成的銀像得以顯影出來，

曝光步驟是將光線聚焦在光刻膠上，而顯影步驟則是將底材浸泡在顯影劑中達到消除未曝光區(qū)域的目的。通過曝光顯影技術(shù)，可以在微米尺度上制造出高精度的微電子元器件和芯片。顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進行充分反應，顯影液噴淋后需要在硅片表面停留一般為幾十秒到一兩分鐘。為感光的油墨被顯影液去除，通過這樣的方式，需要蝕刻的圖案顯影在鋼片上面了。