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1分鐘前 茂名存儲卡外殼曝光顯影廠免費咨詢「利成感光」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容:曝光不足,導(dǎo)致單體聚合不,那么在顯影過程中,會使的膠膜變軟,線條不清晰,色澤暗淡,脫膠。曝光過度,會造成難顯影,留有殘膠。同時曝光影響圖案的線寬,過量曝光會使圖形線條變細,蝕刻產(chǎn)品線條變粗。顯影噴淋(developer dispense):在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上,顯影噴嘴分為以下幾種:E2噴嘴,LD噴嘴,GP噴嘴,MGP噴嘴等。

顯影液去除并且清洗(rinse):達到顯影時間后,使用DIW立即沖洗晶圓表面。去離子水不僅可以使顯影過程終止,而且會把顯影后缺陷顆粒沖洗掉。在沖洗過程中,晶圓旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力也對去除表面顆粒有很大的幫助。曝光不足,導(dǎo)致單體聚合不,那么在顯影過程中,會使的膠膜變軟,線條不清晰,色澤暗淡,脫膠。曝光過度,會造成難顯影,留有殘膠。同時曝光影響圖案的線寬,過量曝光會使圖形線條變細,

顯影噴淋(developer dispense):在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上,顯影噴嘴分為以下幾種:E2噴嘴,LD噴嘴,GP噴嘴,MGP噴嘴等。顯影液去除并且清洗(rinse):曝光:使用紫外線曝光機將掩膜上的圖案投射到光刻膠上。顯影:使用顯影液將未曝光的光刻膠清除掉,將芯片圖案暴露出來??涛g:使用化學(xué)反應(yīng)或物理方法將芯片表面的材料刻蝕掉,形成所需的電子器件結(jié)構(gòu)。清洗:將芯片在化學(xué)清洗液中清洗干凈,并使用干燥器進行干燥。

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