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公司基本資料信息
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蘇州英飛思科學(xué)儀器有限公司,英文名字:Efficiency Scientific Instrument Co.,Ltd.
公司logo和英文縮寫為ESI。
英飛思ESI坐落于美麗而現(xiàn)代的蘇州工業(yè)園。
XRF鍍層測(cè)厚儀工作原理鍍層測(cè)厚儀是將X射線照射在樣品上,通過(guò)從樣品上反射出來(lái)的第二次X射線的強(qiáng)度來(lái)測(cè)量鍍層等金屬薄膜的厚度,因?yàn)闆](méi)有接觸到樣品且照射在樣品上的X射線能量很低,所以不會(huì)對(duì)樣品造成損壞。同時(shí),測(cè)量的也可以在10秒-30秒內(nèi)完成。
膜厚儀EDX-8000B型XRF鍍層測(cè)厚儀
Simply The Best
>微光斑X 射線聚焦光學(xué)器件
通過(guò)將高亮度一次 X 射線照射到0.02mm的區(qū)域,實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。
>硅漂移探測(cè)器 (SDD) 作為檢測(cè)系統(tǒng)
高計(jì)數(shù)率硅漂移檢測(cè)器可實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。
>高分辨率樣品觀測(cè)系統(tǒng)
的點(diǎn)位測(cè)量功能有助于提高測(cè)量精度。
XRF鍍層測(cè)厚儀工作原理
鍍層測(cè)厚儀EDX8000B是將X射線照射在樣品上,通過(guò)從樣品上反射出來(lái)的第二次X射線的強(qiáng)度來(lái)測(cè)量鍍層等金屬薄膜的厚度,因?yàn)闆](méi)有接觸到樣品且照射在樣品上的X射線能量很低,所以不會(huì)對(duì)樣品造成損壞。同時(shí),測(cè)量的也可以在10秒-30秒內(nèi)完成。