電鍍鍍膜加工二次浸鋅加工工藝

將次浸鋅后的鋅層在20%~30%HNO3水溶液中，撤出鋅或是在帶有氟化物的活化液中退除鋅層，實際操作時間約為30s，待鋅層所有退除后手洗開展第二次浸鋅，經二次浸鋅解決的鋅層更勻稱高密度，能提高鎂合金常規與事后涂層中間的結合性。

真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統鍍膜方式，真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜。

(1)取下陽極氧化，加去雜水5ml/l，加溫60—70度C，氣體拌和2鐘頭。(手頭上無牢固去雜劑時不需加)。

(2)有機化學雜質多時，先報名參加3—5ml/lr的30%解決，氣拌和3鐘頭。

(3)將3—5g/l粉狀特異性在持續拌和下報名參加，再次氣拌和2鐘頭，關拌和靜放4鐘頭，過慮，一起清缸。

(4)清理維護保養陽極氧化掛回。

(5)用鍍了鎳的瓦楞紙形不銹鋼板作負極，在0.5—0.1安/平方分米的電流強度下開展電解法，直到壓型板表面變化為灰白色(類似暗鎳顏色)才行，此系統進程約4—12鐘頭，雜質太多需時更長。電解法時會必需打開氣體拌和或負極挪動，以發展解決實際效果。

(6)解析調節各主要參數、報名參加解決理中遺失的一部分防腐劑、濕冷劑，必需時開展霍耳槽試驗，及格后就可以試鍍。

真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。

真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。

真空鍍膜設備的維護需要實際操作，不僅包括真空鍍膜設備本身，還包括真空鍍膜設備等配置。畢竟，配置是真空鍍膜設備維護的重要前提。