鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發經驗,數十項ICP檢測標準的起草單位,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,ICP光譜儀產品標準GB/T 36244-2018起草單位,懂ICP應用的國產ICP光譜儀制造商。央企品牌，上市公司，品質之選！

想了解更多產品信息您可撥打公司熱線進行咨詢！鋼研納克竭誠為您服務！

鋼研納克Plasma 2000 全譜ICP光譜儀參數

1. 光學系統：中階梯二維分光光學系統，焦距400mm

2. 譜線范圍：165nm~900nm，光學分辨率：0.007nm（200nm處）

3. 光柵規格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm

4. 晶體管固態射頻發生器，小巧有效

5. 40.68MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限

6. 自動匹配調節

7. 全組裝式炬管，降低了維護成本

8. 計算機控制可變速10滾軸四道或兩道蠕動泵，具有快速清洗功能

9. 實驗數據穩定性良好：重復性

RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；穩定性：RSD

≤2.0%（大于3小時）

鋼研納克檢測技術股份有限公司是的ICP光譜儀生產企業,主營產品有: ICP光譜儀,電感耦合等離子體光譜儀,國產ICP光譜儀,ICP光譜分析儀,全譜ICP,單道掃描ICP光譜儀,ICP-AES,ICP-OES等。源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發經驗,數十項ICP檢測標準的起草單位,中國ICP光譜儀產品標準GB/T 36244-2018《電感耦合等離子體原子發射光譜儀》起草單位,懂ICP的國產ICP光譜儀制造商。歡迎來電洽談

鋼研納克擬負責起草ICP-AES

鋼研納克擬負責起草《電感耦合等離子體發射光譜儀》

儀器信息網訊 2014年10月28日，委決定發布通知對2014年第二批擬立項項目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發射光譜儀》國家推薦標準。主管部門為中國機械工業聯合會，歸口單位為國工業過程測量和控制標準化技術會，起草單位為鋼研納克檢測技術有限公司，計劃完成時間為2016年。

《電感耦合等離子體發射光譜儀》標準將規定電感耦合等離子體原子發射光譜儀的術語與縮略語、分類、要求、試驗方法、檢驗規則、標志、包裝、運輸和貯存。

據介紹，制定該標準旨在提升我國ICP光譜儀的生產制造規范性，使儀器性能穩定;通過規范生產提高ICP光譜儀生產企業準入門檻，形成具有競爭力的企業。從而縮小國產儀器同國外儀器的性能差距，提高國產ICP光譜儀的市場占有率。對ICP光譜儀產業發展具有重要和積極的意義。

項目起草單位鋼研納克檢測技術有限公司研發生產電感耦合等離子體發射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開發了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學結構和科研級CCD檢測器實現全譜采集，該儀器是鋼研納克“國家重大科學儀器設備開發專項”成果。