鍍的基本原理：在真空條件下，金屬、金屬合金等被蒸發蒸發，然后沉積到基體表面，蒸發法通常采用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使其蒸發成氣相，然后沉積到基體表面。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。

真空鍍膜目的是希望減少光的反射，增加透光率，抗紫外線并抑低耀光、鬼影;不同顏色的真空鍍膜，也使的成像色彩平衡的不同。

真空鍍膜是應用物理分析化學方法，提高產品質量、提高產品使用期限。根據效果和基礎表層的化學變化，在基礎上制作金屬材料和化學物質塑料薄膜的方式。真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響電鍍產品的質量。

真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，供優異的電磁屏蔽和導電效果。真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。

真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，廣泛應用于汽車、摩托車燈具、工藝美術、裝潢裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、化妝品、手機、鬧鐘等領域。

真空鍍膜有三種方式，即揮發鍍膜、磁控濺射鍍膜和等離子噴涂。真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜。在鍍膜方式上，比較普遍的是采用蒸發鍍或者磁控濺射鍍或者離子鍍。