7分鐘前 茂名錄像機曝光顯影加工廠來電咨詢「利成感光」[利成感光38dbdb8]內容：曝光顯影可以幫助制造微米或毫米尺寸的芯片結構，實現芯片的復雜功能。曝光顯影技術可以制造出復雜的三維芯片結構，讓芯片具有更高的性能和功能。曝光顯影可以在芯片上制造微細的線路，從而實現快速和可靠的信號傳輸。曝光顯影可以制造微小的電容、電阻、晶體管、發光二極管或太陽能電池等晶體管器件，快速將電信號轉變為其他形式的能量。

顯影噴淋（developer dispense）：在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上，顯影噴嘴分為以下幾種：E2噴嘴，LD噴嘴，GP噴嘴，MGP噴嘴等。在傳統的膠片攝影中，曝光是通過光線交互感光材料來記錄影像的過程，而顯影是通過在顯影劑溶液中，通過還原和氧化反應，使得感光材料上的顯影晶粒排列形成的銀像得以顯影出來，

曝光顯影可以制造微小的電容、電阻、晶體管、發光二極管或太陽能電池等晶體管器件，快速將電信號轉變為其他形式的能量。曝光顯影技術可以制造出高精度微納米級別下的芯片制造工藝，大大提高了芯片質量及其可靠性。預噴淋（p-wet）：為了提高后面顯影液在硅片表面的附著性能，先在硅片表面噴上一點去離子水（Deionizedwater，DIW）。

顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進行充分反應，顯影液噴淋后需要在硅片表面停留一般為幾十秒到一兩分鐘。曝光顯影加工是半導體工業制程中的一種加工方法，也被稱為光刻工藝。它是通過在芯片表面上涂覆一層光刻膠，并使用掩膜在光刻膠上曝光出所需要的芯片圖案，通過顯影來去除未曝光的部分，將芯片圖案準確地轉移到芯片表面的制程。