真空除氣儲存柜設(shè)備用途

本系統(tǒng)主要分為機(jī)械與電控兩大部分。下面將詳述各個(gè)部分構(gòu)成。

機(jī)械部分主要由以下兩個(gè)單元構(gòu)成：真空箱室單元、真空獲得系統(tǒng)單元。

真空除氣儲存柜設(shè)備主要應(yīng)用于金屬材料與非金屬材料的高真空熱處理。主要應(yīng)用行業(yè)與工藝：半導(dǎo)體硅片除氣；3D打印金屬工件與合金材料的高真空熱處理；X射線管高真空除氣。

真空除氣存儲柜工藝流程

真空除氣存儲柜、真空除氣爐的控制操作可以選擇手動與自動兩種模式。

該設(shè)備有兩種工藝流程：常溫保壓工藝與加熱除氣工藝。用戶可根據(jù)實(shí)際情況需要，在設(shè)備上設(shè)定需要的執(zhí)行功能與詳細(xì)的目標(biāo)參數(shù)。當(dāng)用戶設(shè)定參數(shù)之后，系統(tǒng)即按照用戶的設(shè)定參數(shù)默認(rèn)執(zhí)行。

設(shè)備具有很高的智能化，當(dāng)用戶設(shè)定的參數(shù)目標(biāo)值存在錯(cuò)誤或邏輯沖突時(shí)，系統(tǒng)會及時(shí)提醒并不能按照錯(cuò)誤的數(shù)據(jù)啟動運(yùn)行設(shè)備。并可以提供20+組不同的參數(shù)組，供客戶選擇和修改。并且具備工藝記憶功能，方便客戶的使用。

真空除氣爐、真空存儲柜的使用環(huán)境

使用環(huán)境

①　設(shè)備占地面積約：長2米，寬1.6米（約3.2平米）高1.95米；

②　電源：380 V±38 V，50 Hz±0.5 Hz，約15KW（外部電源用戶自備）；

③　工件要求：無油污，無腐蝕性物質(zhì)；

④　環(huán)境溫度： 5 ℃ ～ 35 ℃；

⑤　相對濕度： 20%-85%；

⑥　設(shè)備應(yīng)安裝在通風(fēng)良好的廠房內(nèi)。

真空除氣儲存柜維護(hù)要求

真空除氣儲存柜，又稱真空存儲箱，用于各類金屬材料，化工原料，半導(dǎo)體芯片、電路板、電子器件，電池片、電池材料等其他易氧化材料的真空存儲，防潮、防氧化。也可用于膠水的真空脫泡、除氣等作用，經(jīng)常在真空灌膠消氣泡的工藝過程中應(yīng)用。

1、放入需要保存的產(chǎn)品，快速抽真空到極限真空，可能逐漸回壓到一個(gè)平衡值，長期保存；

2、放入保存的產(chǎn)品后，啟動程序，快速抽至真空下限值，持續(xù)保壓如箱內(nèi)回壓到上限值之后，會自動啟動抽真空至下限值；

3、抽真空至下真空度后，自動充入氮?dú)庵脸海跓o氧環(huán)境下保存產(chǎn)品。

為了提高空間的利用率，通常可以分為兩腔，三腔，四腔，六腔體等等。根據(jù)產(chǎn)品的存放要求，存放時(shí)間和工藝產(chǎn)線要求，程序可以做不同的調(diào)整。