PVD涂層是采用物理氣相沉積法（PVD技術(shù)）制備的涂層，起初主要用于高速鋼類的刀具涂層，之后得到大幅推廣使用，其應(yīng)用范圍也不再局限于切削刀具領(lǐng)域，逐漸向航空航天、、電子通訊、汽車零件等領(lǐng)域應(yīng)用。在PVD涂層制備過程中，可能存在某些表面缺陷，要使用表面處理技術(shù)來改善其性能，提高使用質(zhì)量。

超聲清洗

超聲清洗能將PVD涂層產(chǎn)品表面油污、灰塵及氧化雜質(zhì)清除，保證待鍍產(chǎn)品表面清潔，提高膜基結(jié)合力。在工業(yè)生產(chǎn)中，對于不同表面狀況的待鍍產(chǎn)品，超聲清洗一般有粗洗和精洗。粗洗耗時短，只是對待鍍產(chǎn)品進(jìn)行簡單的除油、除銹超聲清洗，主要針對一些表面已經(jīng)有涂層或者需要鈍化的產(chǎn)品；精洗耗時較長，需要使用清洗線各功能槽清潔待鍍產(chǎn)品，經(jīng)清洗完畢后，產(chǎn)品可直接裝爐進(jìn)行涂層制備。

真空蒸發(fā)鍍膜

真空蒸發(fā)鍍膜是指在真空條件下，通過蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在基板材料表面來獲得薄膜的一種技術(shù)。被蒸發(fā)的物質(zhì)被稱為蒸鍍材料。蒸發(fā)鍍膜早由 M.法拉第在 1857年提出，經(jīng)過一百多年的發(fā)展，現(xiàn)已成為主流鍍膜技術(shù)之一。

真空蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)一般由三個部分組成：真空室、蒸發(fā)源或蒸發(fā)加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。在真空中為了蒸發(fā)待沉積的材料，需要容器來支撐或盛裝蒸發(fā)物，同時需要提供蒸發(fā)熱使蒸發(fā)物達(dá)到足夠高的溫度以產(chǎn)生所需的蒸汽壓。

真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)具有簡單便利、操作方便、成膜速度快等特點，是應(yīng)用廣泛的鍍膜技術(shù)，主要應(yīng)用于光學(xué)元器件、LED、平板顯示和半導(dǎo)體分立器的鍍膜。真空鍍膜材料按照化學(xué)成分主要可以分為金屬/非金屬顆粒蒸發(fā)料，氧化物蒸發(fā)料，氟化物蒸發(fā)料等。

金百辰智能科技（浙江）有限公司從事汽車零部件、家電類、機(jī)械配件等塑膠成型與pvd鍍膜工藝加工。

汽車輪轂鍍膜設(shè)備與您分享基體外表狀況對鍍層布局的影響

真空鍍膜層是由晶體或晶粒組成的，晶體的大小、形狀及擺放方法決議著鍍層的布局特性。在各種不一樣的電鍍液中，金屬鍍層的布局特性也是不一樣的，主要是堆積進(jìn)程不一樣所造成的。開端電鍍時，基體資料外表首要生成一些纖細(xì)的小點，即結(jié)晶核，跟著時刻添加，單個結(jié)晶數(shù)量添加，并相互銜接成片，構(gòu)成鍍層。

離子鍍基本原理是在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子，同時產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負(fù)偏壓。這樣在深度負(fù)偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。

物理氣相沉積技術(shù)基本原理可分三個工藝步驟：

(1)鍍料的氣化：即使鍍料蒸發(fā)，升華或被濺射，也就是通過鍍料的氣化源。

(2)鍍料原子、分子或離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞后，產(chǎn)生多種反應(yīng)。

(3)鍍料原子、分子或離子在基體上沉積。