此外，還要求能溶于水，本身及其氧化產(chǎn)物不含毒性等條件。5H,0）俗稱大蘇打或海波，為無色透明的單斜晶體，易溶于水，水溶液呈弱堿性，遇強酸會析出硫和氧化硫。以上條件僅是一般的要求，如果作為性能良好的顯影劑來說，還應有更嚴格的要求，即顯影速度快、還原銀的顆粒細膩、灰霧度小、化學性能穩(wěn)定以及顯影容量大等等，當然要在一種顯影劑上完全具備上述條件是很困難的，因其中有些要求本身是互相矛盾的。還原太慢或在還原過程中不能區(qū)分曝光和未曝光鹵化銀的還原劑都不能作為顯影劑。例如Na,SO，和SnCl，等化學上都是很好的還原劑，可是由于亞硫酸鈉還原鹵化銀的速度太慢；而氯化亞錫的還原能力又太強，它不僅能使已曝光的鹵化銀還原，同時也能使未曝光的鹵化銀還原，因此終得不到清晰的影像。

顯影液中放入適量的化鉀，不但可以起到較好的抑制灰霧的作用，而且還可以增加影像的反差。但是，如果加入的量太多或由于顯影生成的比物的累積增多，將使顯影速度降低、密度降低，感光度下降，細部層次也有所損失。

感光材料顯影一定時間，出現(xiàn)了清晰可見的影像后，這時必須將感光材料從顯影液中取出，馬上進行水洗或用停顯液漂洗，除去顯影液，使顯影停止下來這一過程叫停顯。如果徑向誤差分析顯示這種情況，需要通過調(diào)整掩模版顯影高度來對周邊進行補償。如果后面使用的定影液是酸性定影液，則這一步常常被水洗所代替。停顯液是酸性水溶液，常用的有醋酸、硼酸、硫酸等，一般都使用弱酸。

工藝工序

清洗——中和——三連水洗——陽極氧化——水洗——中和——二連水洗——染色——二連水洗——封孔——二連純水洗——干燥——下掛全檢

曝光顯影工序：殼件拋光——噴涂感光油墨——曝光顯影——去除非保護區(qū)油墨——噴砂——次陽極氧化——鐳雕出導電位——二次氧化

總結(jié)：曝光氧化在二次氧化 工藝前添加拋光和曝光顯影工藝。