此外，還要求能溶于水，本身及其氧化產物不含毒性等條件。5H,0）俗稱大蘇打或海波，為無色透明的單斜晶體，易溶于水，水溶液呈弱堿性，遇強酸會析出硫和氧化硫。以上條件僅是一般的要求，如果作為性能良好的顯影劑來說，還應有更嚴格的要求，即顯影速度快、還原銀的顆粒細膩、灰霧度小、化學性能穩定以及顯影容量大等等，當然要在一種顯影劑上完全具備上述條件是很困難的，因其中有些要求本身是互相矛盾的。還原太慢或在還原過程中不能區分曝光和未曝光鹵化銀的還原劑都不能作為顯影劑。例如Na,SO，和SnCl，等化學上都是很好的還原劑，可是由于亞硫酸鈉還原鹵化銀的速度太慢；而氯化亞錫的還原能力又太強，它不僅能使已曝光的鹵化銀還原，同時也能使未曝光的鹵化銀還原，因此終得不到清晰的影像。

顯影液中放入適量的化鉀，不但可以起到較好的抑制灰霧的作用，而且還可以增加影像的反差。但是，如果加入的量太多或由于顯影生成的比物的累積增多，將使顯影速度降低、密度降低，感光度下降，細部層次也有所損失。

感光材料顯影一定時間，出現了清晰可見的影像后，這時必須將感光材料從顯影液中取出，馬上進行水洗或用停顯液漂洗，除去顯影液，使顯影停止下來這一過程叫停顯。如果徑向誤差分析顯示這種情況，需要通過調整掩模版顯影高度來對周邊進行補償。如果后面使用的定影液是酸性定影液，則這一步常常被水洗所代替。停顯液是酸性水溶液，常用的有醋酸、硼酸、硫酸等，一般都使用弱酸。

工藝工序

清洗——中和——三連水洗——陽極氧化——水洗——中和——二連水洗——染色——二連水洗——封孔——二連純水洗——干燥——下掛全檢

曝光顯影工序：殼件拋光——噴涂感光油墨——曝光顯影——去除非保護區油墨——噴砂——次陽極氧化——鐳雕出導電位——二次氧化

總結：曝光氧化在二次氧化 工藝前添加拋光和曝光顯影工藝。