PVD涂層是采用物理氣相沉積法（PVD技術）制備的涂層，起初主要用于高速鋼類的刀具涂層，之后得到大幅推廣使用，其應用范圍也不再局限于切削刀具領域，逐漸向航空航天、、電子通訊、汽車零件等領域應用。在PVD涂層制備過程中，可能存在某些表面缺陷，要使用表面處理技術來改善其性能，提高使用質量。

超聲清洗

超聲清洗能將PVD涂層產品表面油污、灰塵及氧化雜質清除，保證待鍍產品表面清潔，提高膜基結合力。在工業生產中，對于不同表面狀況的待鍍產品，超聲清洗一般有粗洗和精洗。粗洗耗時短，只是對待鍍產品進行簡單的除油、除銹超聲清洗，主要針對一些表面已經有涂層或者需要鈍化的產品；精洗耗時較長，需要使用清洗線各功能槽清潔待鍍產品，經清洗完畢后，產品可直接裝爐進行涂層制備。

真空蒸發鍍膜

真空蒸發鍍膜是指在真空條件下，通過蒸發源加熱蒸發某種物質使其沉積在基板材料表面來獲得薄膜的一種技術。被蒸發的物質被稱為蒸鍍材料。蒸發鍍膜早由 M.法拉第在 1857年提出，經過一百多年的發展，現已成為主流鍍膜技術之一。

真空蒸發鍍膜系統一般由三個部分組成：真空室、蒸發源或蒸發加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。在真空中為了蒸發待沉積的材料，需要容器來支撐或盛裝蒸發物，同時需要提供蒸發熱使蒸發物達到足夠高的溫度以產生所需的蒸汽壓。

真空蒸發鍍膜技術具有簡單便利、操作方便、成膜速度快等特點，是應用廣泛的鍍膜技術，主要應用于光學元器件、LED、平板顯示和半導體分立器的鍍膜。真空鍍膜材料按照化學成分主要可以分為金屬/非金屬顆粒蒸發料，氧化物蒸發料，氟化物蒸發料等。

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汽車輪轂鍍膜設備與您分享基體外表狀況對鍍層布局的影響

真空鍍膜層是由晶體或晶粒組成的，晶體的大小、形狀及擺放方法決議著鍍層的布局特性。在各種不一樣的電鍍液中，金屬鍍層的布局特性也是不一樣的，主要是堆積進程不一樣所造成的。開端電鍍時，基體資料外表首要生成一些纖細的小點，即結晶核，跟著時刻添加，單個結晶數量添加，并相互銜接成片，構成鍍層。

離子鍍基本原理是在真空條件下，采用某種等離子體電離技術，使鍍料原子部分電離成離子，同時產生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負偏壓。這樣在深度負偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。

物理氣相沉積技術基本原理可分三個工藝步驟：

(1)鍍料的氣化：即使鍍料蒸發，升華或被濺射，也就是通過鍍料的氣化源。

(2)鍍料原子、分子或離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經過碰撞后，產生多種反應。

(3)鍍料原子、分子或離子在基體上沉積。