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真空鍍膜與您分享超高純金屬及濺射靶材是電子材料的重要組成部分，濺射靶材產業鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用等環節，其中，真空鍍膜工廠，靶材制造和濺射鍍膜環節是整個濺射靶材產業鏈中的關鍵環節。

上游的金屬提純主要從自然界重點金屬礦石進行提純，一般的金屬能達到 99.8%的純度，濺射靶材需要達到 99.999%的純度。

靶材制造環節首先需要根據下游應用領域的性能需求進行工藝設計，然后進行反復的塑性變形、熱處理來控制晶粒、晶向等關鍵指標，再經過水切割、機械加工、金屬化、超生測試、超聲清洗等工序。

真空鍍膜與您分享真空鍍金屬的工藝流程

真空鍍金屬的工藝流程為：塑料表面處理（凈化、活化）涂底漆干燥、真空鍍金屬涂面漆干燥。其工藝流程作簡要介紹：產品表面清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝.

真空鍍金屬的工藝流程為：塑料表面處理（凈化、活化）涂底漆干燥、真空鍍金屬涂面漆干燥。其工藝流程作簡要介紹：產品表面清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝.

為了提高涂層厚度的均勻性，采用行星機構或行星運動形式等旋轉運動設備的真空室具有良好的涂膜均勻性、良好的涂層臺階覆蓋性能、較大的承載能力，并能充分利用有用空間。這是一種常見的運動形式。排氣系統通常由機械泵、分散泵、管路和閥門組成。 為了提高泵的流量，可以在機械泵和分散泵之間增加增壓器。 因此，排氣系統不僅要在短時間內以低壓保證快速的工作循環，而且還需要快速清除氣體的蒸發源和蒸發工件的表面。蒸發系統包括電氣設備和加熱蒸發源。