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公司基本資料信息
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PVD是物理氣相沉積的簡稱,是指在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術,利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上真空鍍膜。利用物理過程實現物質轉移,在工件表面形成具有特殊性能的金屬或化合物涂層,其特殊性能包括強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性、以及絕緣等。涂層的物質源是固態物質,利用氣體放電或加熱的方式使靶材蒸發或者電離,經過“蒸發或者濺射”后,在電場的作用下,在工件表面生成與基材性能不同的固態物質涂層。
在日常的操作中,有些用戶由于其操作不當導致鍍膜效果欠佳的問題,在PVD真空鍍膜過程中,鍍膜機腔體內的壓力波動將導致鍍膜不均勻以及重復性欠佳。質量流量控制器控制反應氣體的同時,采用壓力控制器控制腔體內惰性氣體的壓力,從而提升終等離子氣相沉積(PVD)的結果。
表面科學是在固體物理等許多科學基礎上發展起來的新科學,其研究對象是各種各樣的表面。真空鍍膜技術為制造各種各樣的清潔表面提供了手段。特別是20世紀70年代在真空鍍膜基礎上發展起來的分子束外延技術,用他不值可以特備可控制的超薄薄膜、原子級平整度的表面、上百層的疊加膜,而且還可以控制薄膜的成分和亞比。這些薄膜的制備均為科學的研究和發展提供了充分的條件。
真空搜膜技術在其他科學領域中的應用亦很廣泛。例如,電子顯微鏡的標本必須經過真空鍍膜處理才能觀察﹔激光器需要鍍上精密控制的光學膜層才能使用;太陽能利用也與真空鍍膜技術息息相關。
Parylene涂層加工服務方面,我們擁有十幾年成熟穩定的生產工藝,及持續面對新產品的創新研發能力,擁有的技術團隊。公司發展至今,我們所經營的Parylene涂層廣泛的應用在、生物醫學、電子電路、LED、微機電,古保護等領域,并與科研院所及高校建立起了良好的科研合作關系。
我們致力于Parylene菱威涂層技術在可適用行業的深入推廣應用,我們的目標是在特殊涂層這一領域,實現以的Parylene涂層加工服務作為公司的發展,秉承“成就品質,創新鑄造未來”的公司理念,為客戶提供Parylene從涂層加工服務,到涂層設備、涂層原輔料等相關產品的供給的服務。