真空鍍膜加工之前應注意什么？

有些物質會嚴重影響真空鍍膜的質量，導致顏色異常或變色。因此，不銹鋼首飾制造商應盡量避免上述物質隱藏在零件中，在制造過程中無法去除，以免在后續的真空電鍍中影響不銹鋼涂層的質量。

真空鍍膜加工提高反射膜的反射率也可壓縮帶寬,但對于金屬-介質濾光片而言,過于減小帶寬將使峰值透射率顯著下降,因此在可見區，它們的半寬度在5~10 nm為佳．即使是下面將要討論的全介質濾光片,增加反射膜層數,提高反射膜的反射率以壓縮帶寬也是有一定限制的。

在電子學方面真空鍍膜更占有較為重要的地位。各種規模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件( CCD )也都甬道各種薄膜。

在元件方面，在真空中蒸發鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以制造電阻，在塑料上蒸發鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造電容器，蒸發硒可以得到靜電復印機用的硒鼓、蒸發鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發還可以用于制造超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。

高頻感應蒸發源蒸鍍法：

高頻感應蒸發源是將裝有蒸發材料的石墨或陶瓷坩鍋放在水冷的高頻螺旋線圈中央，使蒸發材料在高頻帶內磁場的感應下產生強大的渦流損失和磁滯損失（對鐵磁體)，使蒸發材料升溫，直至氣化蒸發。

優點：

1、蒸發速率大，可比電阻蒸發源大10倍左右。

2、蒸發源的溫度均勻穩定不易產生飛濺現象。

3、蒸發材料是金屬時，蒸發材料可產生熱量。

4、蒸發源一次裝料，無需送料機構，溫度容易控制，操作簡單。