真空鍍膜加工是利用物理沉積作用將在上面涂附一層金屬膜，具有比原有表面更耐磨、耐腐蝕等優于材料本身的性能，經過鍍膜加工膜層使產品達到延長使用壽命，提高質量的效果。

加工產品前必須做好表面的清潔工作，不同的材質加工流程不一樣，但是必須遵循產品加工的要求才能出性能優異的產品，無水無油的五金小件產品可以直接加工，其他材質在前期需進行打底層保護。

真空鍍膜加工工藝中，要求裝配到高真空環境的零件，事先都需要小心地進行清洗處理，否則各種污染物可成為大量氣體和蒸氣的來源，會大大延長真空器件的排氣時間，不易獲得高真空。

真空鍍膜它不同于一般水鍍著色電鍍，具有更耐磨，更耐腐蝕、硬度更高等優點，產品不易變色，顏色持久耐用，更能提升產品的檔次。

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真空鍍膜加工中頻磁控濺射

目標源可分為平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂層均勻，且非平衡靶源的涂層與基材的附著力強。平衡靶源主要用于半導體光學薄膜，非平衡靶源主要用于裝飾膜的佩戴。

無論平衡還是不平衡，如果磁鐵是靜止的，其磁性決定了現有材料的利用率通常小于3。為了提高靶材的利用率，可以采用旋轉磁場。然而，旋轉磁場需要一個旋轉機構，并且應降低等待速率。旋轉磁場主要用于大型或有價值的目標。如半導體薄膜濺射。對于小型設備和一般工業設備，通常使用磁場靜態目標源。