真空鍍膜是真空應用領域的一個突破性技術，利用物理或者化學方法并吸收一系列新技術而成的工藝，目的就是為了在實際生產中為產品創造薄膜保護層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。

為什么需要進行真空鍍膜呢？以pld為例，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時間。這項工藝已經成為了電子元器件制造中的一項不可或缺的技術，主要是為了使產品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優于產品本身的性能，從而提高產品的質量，延長加工產品的使用壽命，不僅如此，還可以節約能源，獲得更為顯著的技術經濟效益。

實際應用中，我們往往會根據產品的性質來決定選用哪種真空鍍膜工藝。磁控濺射鍍主要用于金屬產品，蒸發鍍主要用于塑膠產品，光學離子鍍主要用于璃玻產品。濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發鍍膜的不同點在于濺射速率將成為主要參數之一。真空電鍍為磁控濺射鍍，以電鍍不銹鋼產品材質為主，可以電鍍金色、玫瑰金色、黑色、槍色、藍色等顏色，質量穩定，品質保障。

防水納米液真空鍍膜技術的特點，真空鍍膜技術主要有真空蒸發鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學氣相沉積等多種方法。除化學氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點：

(1)各種鍍膜技術都需要一個特定的真空環境，制膜材料在加熱蒸發或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質的不良影響。

底涂烘干：鍍膜油系列均為自干型漆，烘干的目的是為了提高生產效率。烘干完成的要求是漆膜完全干燥。

電子鍍膜：鍍膜時，應保證電子鍍膜機的真空度達到要求后，再加熱鎢絲，并嚴格控制加熱時間。同時，應掌握好鍍膜用金屬（如鋁線)的量，太少可能導致金屬膜遮蓋不住底材，太多則除了浪費外，還會影響鎢絲壽命和鍍膜質量。

面涂：通常面涂的目的有以下兩個方面：

A、提高鍍件的耐水性、耐腐蝕性、耐磨耗性；

B、為水染著色提供可能。