氦質(zhì)譜檢漏儀常用檢漏方法及標(biāo)準(zhǔn)

氦質(zhì)譜檢漏法是利用氦質(zhì)譜檢漏儀的氦分壓力測量原理，實現(xiàn)被檢件的氦泄漏量測量。例如，夏天，室溫達(dá)到30℃，這種標(biāo)準(zhǔn)漏孔的漏率誤差增加30%。當(dāng)被檢件密封面上存在漏孔時，示漏氣體氦氣及其它成分的氣體均會從漏孔泄出，泄漏出來的氣體進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀后，由于氦質(zhì)譜檢漏儀的選擇性識別能力，僅給出氣體中的氦氣分壓力信號值。在獲得氦氣信號值的基礎(chǔ)上，通過標(biāo)準(zhǔn)漏孔比對的方法就可以獲得漏孔對氦泄漏量。

根據(jù)檢漏過程中的示漏氣體存貯位置與被檢件的關(guān)系不同，可以將氦質(zhì)譜檢漏法分為真空法、正壓法、真空壓力法和背壓法，下面分別總結(jié)了這四種氦質(zhì)譜檢漏法的檢測原理、優(yōu)缺點及檢測的標(biāo)準(zhǔn)。

氦質(zhì)譜檢漏儀光無源器件檢漏

光無源器件是不含光能源的光能器件的總稱。光無源器件在光路中都要消耗能量，插入損耗是其主要性能指標(biāo)。或使用濃度不低于5~10%的氦氣混合氣體，使用完后，可直接向大氣中排放，要注意周圍環(huán)境中的氦氣的濃度，注意周圍環(huán)境中空氣的流動情況，因為這會影響到吸槍法的檢測精度。光無源器件有光纖連接器、光開關(guān)、光衰減器、光纖耦合器、波分復(fù)用器、光調(diào)制器、光濾波器、光隔離器、光環(huán)行器等。它們在光路中分別實現(xiàn)連接、能量衰減、反向隔離、分路或合路、信號調(diào)制、濾波等功能。本文主要介紹氦質(zhì)譜檢漏儀在無源器件中的檢漏應(yīng)用。

光無源器件是不含光能源的光功能器件的總稱。光無源器件在光路中都要消耗能量，插入損耗是其主要性能指標(biāo)。光無源器件對密封性的要求極高，如果存在泄漏會影響其使用性能和精度，光通信行業(yè)的漏率標(biāo)準(zhǔn)是小于5×10-8mbar。光無源器件有光纖連接器、光開關(guān)、光衰減器、光纖耦合器、波分復(fù)用器、光調(diào)制器、光濾波器、光隔離器、光環(huán)行器等。它們在光路中分別實現(xiàn)連接、能量衰減、反向隔離、分路或合路、信號調(diào)制、濾波等功能。本文主要介紹氦質(zhì)譜檢漏儀在無源器件中的檢漏應(yīng)用。

無源器件檢漏原因：光無源器件是光纖通信設(shè)備的重要組成部分，也是其它光纖應(yīng)用領(lǐng)域不可缺少的元器件。具有高回波損耗、低插入損耗、高可靠性等特點。這一檢漏方式是基于分子泵對不同質(zhì)量的氣體具有不同壓縮比（氣體在分子泵出氣口壓強(qiáng)與進(jìn)氣口壓強(qiáng)之比）即利用不同氣體的逆擴(kuò)散程度不同程度而設(shè)計的。光無源器件對密封性的要求極高，如果存在泄漏會影響其使用性能和精度，光通信行業(yè)的漏率標(biāo)準(zhǔn)是小于 5×10-8 mbar.l/s，因此需要進(jìn)行泄漏檢測。氦質(zhì)譜檢漏法利用氦氣作為示蹤氣體可準(zhǔn)確定位，定量漏點，替代傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏，目前已廣泛應(yīng)用于光無源器件的檢漏。

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氦質(zhì)譜檢漏儀的主要及時指標(biāo)

北京科創(chuàng)鼎新真空技術(shù)有限公司（簡稱：科創(chuàng)真空）是從事真空系統(tǒng)設(shè)計、制造及真空技術(shù)服務(wù)的化公司。公司致力于真空氦檢漏設(shè)備、非標(biāo)真空系統(tǒng)設(shè)計開發(fā)與制造。

1. 較小可檢漏率：5×10-12Pa·m3/s

2. 漏率顯示的范圍：1×10-3—1×10-12Pa·m3/s

3. 啟動時間：≤5min

4. 響應(yīng)時間：≤1s

5. 檢漏口的較高壓力：1500Pa

6. 電源要求：220v，50Hz，單相，10A

7. 工作環(huán)境：5-35℃

8. 相對濕度：≤80%

9. 外形尺寸：550（w）×400（D）×780（H）

10. 重量：64kg

以上就是關(guān)于氦檢漏的相關(guān)內(nèi)容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

氦質(zhì)譜檢漏儀的基本原理及主要組成部分

氦質(zhì)譜檢漏儀的性能、特性好壞取決于質(zhì)譜分析室。今天科創(chuàng)真空的小編和大家分享的是氦質(zhì)譜檢漏儀對示漏氣體的要求及選擇，如果您想了解更多您可撥打圖片上的電話進(jìn)行咨詢。質(zhì)譜分析室的工作原理是對離子源氣體進(jìn)行電離，電離出來的正離子經(jīng)過電場加速聚焦通過縫隙進(jìn)入均勻磁場，離子束在磁場力的作用下，旋轉(zhuǎn)180o或90o按一定軌跡到達(dá)收集極，此種形式稱之為磁性偏轉(zhuǎn)分析形式。然后，經(jīng)小電流放大器、微處理器，控制器等線路處理直至液晶屏顯示出讀數(shù)的大小1。

三．氦質(zhì)譜檢漏儀在壓力容器中的常用方法

在壓力容器中，使用氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏常用的方法大體可分為三種，即噴氦法（負(fù)壓法），吸槍法（正壓法），氦罩法。檢漏時，用連接在裝有氦氣的氣瓶上的噴槍向懷疑有漏泄的部位噴氦氣，如果有氦氣從漏孔中流入壓力容器裝置，則裝置內(nèi)的氦分壓就會上升，氦檢漏儀上就會顯示有泄漏率。就幾種方法的靈敏度比較而言，噴氦法的靈敏度高些。但是當(dāng)檢漏儀安裝在大型的、比較復(fù)雜的壓力容器裝置上時，也不敢確切地說噴氦法的靈敏度就是高。