1分鐘前 黃埔鋼材曝光顯影加工工藝在線咨詢「在線咨詢」[利成感光38dbdb8]內容：

曝光工藝是怎樣？

將需要的圖形根據(jù)油墨的感光特性制成掩膜板（光罩/Mask)，技術關鍵點：低溫平行光源,波長根據(jù)油墨特性進行設備，目前光源是一大難點問題。

蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。鋼材曝光顯影加工工藝鋼材曝光顯影加工工藝鋼材曝光顯影加工工藝鋼材曝光顯影加工工藝鋼材曝光顯影加工工藝

在了解曝光顯影在蝕刻加工中的作用前，我們要先了解一下什么是曝光顯影。簡單來說曝光顯影是蝕刻加工中確定需要被腐蝕和不被腐蝕部分的工藝，準確的曝光顯影才能保證產(chǎn)品的精度。

曝光時間，s。

從上式可以看出，曝光總能量e隨光強度j和曝光時間t而變化。當曝光時間丁一定，光強度改變，曝光總能量也隨之改變。所以盡管嚴格控制了曝光時間，但實際上干膜在每次曝光時所獲得的曝光總能量并不一定相同，因而聚合程度也就不同。為使每次曝光能量相同，必須使用光能量積分儀來計量曝光。

曝光顯影是一種攝影技術中常用的過程，通常用于將攝影底片或者電子傳感器中記錄的光影信息轉化為可見影像的過程。曝光是將光照射在底片或傳感器上的過程，而顯影則是將暴露的底片或傳感器做出可見影像的過程。這個過程在攝影，印刷和微電子制造等很多領域中都有應用。曝光顯影是一種用于光刻制程的技術，主要用于制造半導體芯片、液晶顯示器等微電子器件。它包含兩個階段：曝光：在將光線通過掩膜中的芯片圖案照射到光刻膠表面的過程中，使得光刻膠在芯片表面保留下芯片圖案的影像。顯影：通過將芯片表面的光刻膠所形成的圖案暴露在顯影液中進行刻蝕，去除光刻膠的非芯片圖案區(qū)域，使得芯片上僅保留出所需要的器件結構。