真空鍍膜工藝在信息存儲(chǔ)范疇中的運(yùn)用薄膜資料作為信息記載于存儲(chǔ)介質(zhì)，有其得天獨(dú)厚的優(yōu)勢(shì)：因?yàn)楸∧ず鼙∧軌蚴韬鰷u流損耗；磁化回轉(zhuǎn)極為敏捷；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀況簡單保持等。為了更精細(xì)地記載與存儲(chǔ)信息，必定要選用鍍膜技能。

真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用。在涂層前一定要清洗產(chǎn)品，避免污染產(chǎn)品，確保表面的清潔度。

(1)取下陽極氧化，加去雜水5ml/l，加溫60—70度C，氣體拌和2鐘頭。(手頭上無牢固去雜劑時(shí)不需加)。

(2)有機(jī)化學(xué)雜質(zhì)多時(shí)，先報(bào)名參加3—5ml/lr的30%解決，氣拌和3鐘頭。

(3)將3—5g/l粉狀特異性在持續(xù)拌和下報(bào)名參加，再次氣拌和2鐘頭，關(guān)拌和靜放4鐘頭，過慮，一起清缸。

(4)清理維護(hù)保養(yǎng)陽極氧化掛回。

(5)用鍍了鎳的瓦楞紙形不銹鋼板作負(fù)極，在0.5—0.1安/平方分米的電流強(qiáng)度下開展電解法，直到壓型板表面變化為灰白色(類似暗鎳顏色)才行，此系統(tǒng)進(jìn)程約4—12鐘頭，雜質(zhì)太多需時(shí)更長。電解法時(shí)會(huì)必需打開氣體拌和或負(fù)極挪動(dòng)，以發(fā)展解決實(shí)際效果。

(6)解析調(diào)節(jié)各主要參數(shù)、報(bào)名參加解決理中遺失的一部分防腐劑、濕冷劑，必需時(shí)開展霍耳槽試驗(yàn)，及格后就可以試鍍。

真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。在進(jìn)入鍍膜室之前，工件須在電鍍前仔細(xì)清洗。真空鍍膜技術(shù)為制造各種各樣的清潔表面提供了手段。這些薄膜的制備均為科學(xué)的研究和發(fā)展提供充分的條件。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.蒸發(fā)鍍膜 通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。

真空鍍膜加工均勻性的概念：

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，真空鍍膜加工均勻性。

2.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜加工的技術(shù)含量所在。

3.晶格有序度的均勻性