光學(xué)微電子凈化工程之定義為將一定空間范圍內(nèi)之空氣中的微塵粒子、有害空氣、細(xì)菌等之污染物排除，并將室內(nèi)之溫濕度、潔凈度、室內(nèi)壓力、氣流速度與氣流分布、噪音震動(dòng)及照明、靜電控制在某一需求范圍內(nèi)，而所給于特別設(shè)計(jì)之密閉空間。

光學(xué)微電子凈化工程亦名無(wú)塵室或清凈室，目前已是半導(dǎo)體、精密制造、液晶制造、光學(xué)制造、線路板制造和生物化學(xué)、醫(yī)1藥、食品制造等行業(yè)不可或缺的重要設(shè)施。近幾年來(lái)，由于技術(shù)之創(chuàng)新發(fā)展，對(duì)于產(chǎn)品的高精密度化、細(xì)小型化之需求更為迫切，如超大型積體電路之研究制造，已成為世界各國(guó)在科技發(fā)展上極為重視的項(xiàng)目，而我公司的設(shè)計(jì)理念及施工技術(shù)在行業(yè)中則處于領(lǐng)1先地位。

第三代：低溫等離子技術(shù)

主要原理是，通過(guò)給氣體外加電壓至氣體的放電電壓，使氣體被擊穿，產(chǎn)生各種強(qiáng)氧化性的低溫等離子。

空氣凈化工程在提高產(chǎn)品質(zhì)量等方面有很明顯的效果，據(jù)國(guó)外文獻(xiàn)的報(bào)導(dǎo)，對(duì)于半導(dǎo)體在10000級(jí)和l00級(jí)潔凈室中制造的產(chǎn)品通過(guò)耐壓試驗(yàn)，在l00級(jí)潔凈室和外大氣環(huán)境中進(jìn)行晶體管涂布擴(kuò)散，100級(jí)潔凈室中產(chǎn)品的性能分布集中，而且峰值出現(xiàn)在更的地方。而在大氣環(huán)境中的產(chǎn)品的性能極為分散，性能也極不穩(wěn)定。可以看出，①有無(wú)空氣凈化，產(chǎn)品成品率有很大差別，②為了提高產(chǎn)品質(zhì)量，不僅生產(chǎn)產(chǎn)品的環(huán)境需要潔凈，而且其關(guān)鍵的原材料、配料的生產(chǎn)也應(yīng)在潔凈環(huán)境中進(jìn)行。

凈化工程它是一個(gè)整體，對(duì)于其中的每個(gè)環(huán)節(jié)都要細(xì)致檢查，只有做好每一個(gè)細(xì)節(jié)，才能讓整個(gè)系統(tǒng)完善，發(fā)揮1大的價(jià)值。因此，大家要知道凈化工程的設(shè)計(jì)既要滿足工藝的條件，又要結(jié)合土建的安排，房間能不暴露的物體盡量都不要暴露，而暴露的物體要做到盡可能的光滑，便于清洗，因此比如說(shuō)通風(fēng)管道和電纜等盡量設(shè)在吊頂里面。