真空鍍膜是在原子水平上進(jìn)行材料生成的技術(shù)，鍍層的晶料度在10納米左右，屬于納米材料的范疇。通過(guò)對(duì)殼內(nèi)壁真空鍍電磁防護(hù)膜層，可以極大地防止因電磁波輻射而對(duì)手機(jī)使用者造成的危害。真空鍍膜技術(shù)的研究”，主要解決的是鍍膜的工藝問(wèn)題，包括電阻率、附著力、高溫性、膜層表面光亮度以及復(fù)雜區(qū)域的膜層附著問(wèn)題。根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應(yīng)濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。

真空鍍膜機(jī)是由真空爐體，真空泵，控制柜，真空計(jì)，冷卻系統(tǒng)等部件組成，真空驢體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。

根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型真空鍍膜機(jī)，其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜設(shè)備、離子鍍真空鍍膜設(shè)備、磁控反應(yīng)濺射真空鍍膜設(shè)備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。

真空鍍膜機(jī)組成結(jié)構(gòu)是怎樣的？一臺(tái)完整的真空鍍膜機(jī)是由多部分系統(tǒng)組成的，每個(gè)系統(tǒng)可以完成不同的功能。

真空鍍膜機(jī)的主體是真空腔，真空腔大小是由加工產(chǎn)品所決定，它的大小能定制，腔體一般是用不銹鋼材料制作，要求結(jié)實(shí)耐用不生銹等。真空腔有許多連接閥用來(lái)連接各種輔助泵。

抽真空系統(tǒng)是鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的一個(gè)重要組成部分，真空度的高低直接影響產(chǎn)品的鍍膜效果，真空度由真空測(cè)試系統(tǒng)取得數(shù)據(jù)。

成膜控制系統(tǒng)能采用不同方式，比如固定鍍制時(shí)間、目測(cè)、監(jiān)控以及水晶震蕩監(jiān)控等。鍍膜方式也分多種工藝，常用的有離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜。

采用真空鍍膜機(jī)物理氣相鍍(簡(jiǎn)稱PVD，亦稱真空鍍)生產(chǎn)出外觀和防腐性的五金配件。采用真空鍍膜機(jī)真空鍍膜具有附著力強(qiáng)、鍍層不易脫落；繞射性好，鍍層厚度均勻；鍍層致密，針孑L氣泡少；鍍前易處理，工藝簡(jiǎn)單；用料省，無(wú)公害等優(yōu)點(diǎn)。可在金屬或非金屬表面上鍍制單質(zhì)、合金或化合物。曾廣泛用于航空、宇航、電子和光學(xué)等工業(yè)部門(mén)中制備各種特殊性能的鍍層。